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半导体废水深处除氟,这份详解请收好!

发布时间:2023-07-26      点击次数:141

 在我国的发展过程中,半导体行业是新出现并快速进步的一个生产行业,比如研发集成电路、二极管、晶体管等,也常用于各种电子设备和系统。在半导体行业的生产过程中,由于酸洗作业和湿法刻蚀工序等使用氢氟酸、氟化铵等物料,会产生大量含氟废水。

这些含氟废水因含有各种有害物质,不仅会造成环境污染、生态破坏,还会对动植物以及人体产生不良影响,只有将废水处理进行必要的完善,才能使我国半导体行业的生产竞争能力更强。因而加强半导体行业含氟废水的处理,是企业亟需解决的环保难题。现有技术常采用加钙沉淀,但加钙一般只能将水中的氟离子去除到10-20mg/l,并且存在加药量大、污泥产量高、水中残留的钙离子结垢等问题。

为满足企业对含氟废水处理达标、高效、便捷、性价比高的需求,自主研发出深度除氟剂,无论是在运行成本、运行效率、安全性和避免产生二次污染等方面,都有着显著的应用优势。


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