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处理半导体行业含氟废水,深度除氟剂受青睐的原因在这!

更新时间:2023-06-27      点击次数:486

在我国的发展过程中,半导体行业是新出现并快速进步的一个生产行业,其主要应用于电子机械制造中。提高半导体行业的生产水平,对我国未来的发展有重要的意义。

在半导体行业的生产过程中,由于酸洗作业和湿法刻蚀工序等使用氢氟酸、氟化铵等物料,进而会产生有氟离子的废水。这类含氟废水通常为工艺二道、三道清洗水,具有水量大、杂质较少、进水呈酸性(pH约为1—3)等特点。

所以进行半导体行业含氟废水处理,是我国面临的一项重要问题,想要使我国半导体行业更加环保,使半导体行业生产过程中的废水得到合理有效的处理,就要选对处理方法,从而事半功倍。


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现有技术常采用加钙沉淀,但加钙一般只能将水中的氟离子去除到10-20mg/l,无法满足现有排放标准,且存在加药量大、污泥产量高、水中残留的钙离子结垢对后续工艺造成损害等问题。

深度除氟剂可以弥补加钙沉淀法的不足,实现低浓度含氟废水处理。处理效果可以达到0.5ppm以下,是众多企业青睐的除氟药剂。与其他市面产品不同,深度除氟剂不含钙质,长期使用不会造成管道、阀体结垢、堵塞现象;此外深度除氟剂有8款产品,种类多、产品系统体系完善,针对不同水质,可以匹配不同类型的药剂,满足客户的定制化需求。

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